用途:适用于TFT Gate膜系、D/S膜系及Pixel膜系的制造
基材:玻璃
设备优势:
1.倾斜式腔体设计以提高基片运行的稳定性
2.配置阵列式阴极,可实现静态镀膜,极大的减少了partical的影响
3.高精密mask设计,避免绕镀现象
4.独到的基片架设计及夹片表面处理,降低产品破片率
5.全自动高速上下片及翻片机构设计,较大得提高了生产节拍
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