用途：适用于TFT Gate膜系、D/S膜系及Pixel膜系的制造

基材：玻璃

设备优势：

1.倾斜式腔体设计以提高基片运行的稳定性

2.配置阵列式阴极，可实现静态镀膜，极大的减少了partical的影响

3.高精密mask设计，避免绕镀现象

4.独到的基片架设计及夹片表面处理，降低产品破片率

5.全自动高速上下片及翻片机构设计，较大得提高了生产节拍