磁控溅射镀膜设备
TFT G8.5连续式磁控镀膜系统

用途:适用于TFT Gate膜系、D/S膜系及Pixel膜系的制造

基材:玻璃

设备优势:

1.倾斜式腔体设计以提高基片运行的稳定性

2.配置阵列式阴极,可实现静态镀膜,极大的减少了partical的影响

3.高精密mask设计,避免绕镀现象

4.独到的基片架设计及夹片表面处理,降低产品破片率

5.全自动高速上下片及翻片机构设计,较大得提高了生产节拍


浙江上方电子装备有限公司
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