磁控溅射技术

根据溅射材料的不同,公司可提供直流、直流脉冲、高功率直流脉冲、中频、射频、高脉冲等溅射技术支持。溅射功率范围:最大可达10~80kw。

可定制不同形式的阴极,平面靶,旋转靶,平面孪生双靶和旋转孪生双靶。适合于在大面积上制备ITO导电膜、金属电极(Cu,Ag、Au、Al、Mo等)、绝缘介质膜、光学膜等。

具有自主知识产权的旋转阴极在1.8米的工作长度范围内厚度误差≤±5%,靶材利用率最高达85%,大大高于普通平面靶(35%利用率)。

可定制大尺寸多腔室连续式生产线,适合于生产薄膜太阳能电池(CdTe、GIGS、硅基太阳能电池)、液晶面板等器件的电极层和核心器件层。


浙江上方电子装备有限公司
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